1。首先，設置單位為米，并渲染默認掃描線渲染。

RAW圖像看起來應該像下面的圖片

2。模型配件。

為了模擬河床..

創建一個普通的長度= 20米，寬25米，段= 8×8

應用噪聲修飾符：規模= 0，實力X = 1.7，Y = 1.5，Z = .25

定位，并與建筑物夷為平地底部

為了模擬水面

創建一個普通的長度= 20M，寬16M，段= 8×8

應用紋波修改：振幅1 = 0.06米，振幅2 =0.15米

波長度= 1.0M，相= 0.1，衰減=。 001

定位約0.5米以下的地面建筑FO 模型的主要巖石， 創建一個長方體，長12米，寬= 2，高度= 800段，40×20×20 應用與噪聲修改使其崎嶇不平 然后申請“渦輪改性劑平滑表面的 位置與河床底部水平。 現場裝飾小巖，相同的程序的主要 巖石，但規模較小 的原始場景模式現在看起來像上圖所示

3。為了模擬瀑布的水。從創建面板，選擇“幾何”，并選擇“粒子系統。在對象類型中選擇粒子陣列。然后拖動屏幕上的任意位置以創建粒子陣列圖標。圖標的大小無關緊要，只要你看到它，那么這將是罰款。或去標簽“菜單，選擇”創建“，然后向下瀏覽，選擇”粒子“，在那里你可以發現粒子陣列

4。為了模擬水源。進入創建面板，然后單擊“標準基本體”和“對象類型”卷展欄上選擇框。在你的頂視圖中創建一個長方體的主要巖石的寬度，說長度= 8米，寬= 0.1，深度= 0.2M。定位它的主要巖石或瀑布位于頂部。把它命名為源“框中。見下圖

5。連接源盒的粒子。選擇粒子陣列圖標，輸入修改基本參數，啟動基礎對象，按框拾取對象，然后選擇“源”框。現在單擊屏幕上的任意位置并選擇“關閉”

6。現在回到你的視角，放大，水就會在那里秋季箱，選擇源框，單擊鼠標右鍵，然后選擇“轉換為聚合”。然后修改面板，選擇多邊形，然后選擇源框的前面。若要關閉選擇，請單擊帶有“編輯多邊形”字樣的灰色框，這只是關閉的突出顯示，但選擇仍然是正的。

7。再次選擇“修改和粒子形成”下的“粒子陣列”圖標，并選中“使用選定子對象”。這意味著“源”框只會在水面上選擇出來。

8。現在做四個視口可見，變焦源框，并作出了一些初步的測試，移動時間滑塊移動到20或30，看個究竟。顆粒在水平方向發射

9。微調粒子的初始設置。，的粒子陣列選擇蜱視口顯示，顆粒百分比100％。在粒子生成點擊使用率= 100，速度= 0.2米，50 20，發散變化

為單位的速度-在出生時，粒子的速度沿法線，每幀旅游。

變異-適用于

每個粒子的排放速度的變化的百分比。

三岔口 -適用于角程度的差異，

每個粒子的速度可以從發射正常。

粒子計時，發射從0開始，停止在100，顯示直到100。生活在100，在25的變化。粒子的大小，把0.06米，變化大小約10。這意味著，水珠是60mm左右，所以它是我的相機上查看。請參閱所示的圖像獲得的初始設定值。

10。現在將時間滑塊調整到大約40幀。如下圖所示，粒子現在有了一些發展

11。是重定向顆粒向下回落。同時，拖動時間滑塊到第0幀，然后現在你的頂視圖中最大化。

從創建面板中，選擇“空間扭曲（波浪符號），然后在對象類型中選擇勢力，然后重力或去標簽”菜單，選擇“創建 - 空間扭曲部隊然后gravitty的。或去標簽面板，并選擇“創建”菜單，上拉下拉菜單項選擇空間彎曲 - 力 - 重力。見下圖

從屏幕上的任意位置拖動，使重力圖標。頂部中心和海拔線與arrrow一個正方形的圖標與x。箭頭指示方向的力。大小和位置并不重要，只要你看到它。見下圖

頂視圖活躍，去主要tollbar，點擊“綁定到空間扭曲圖標，然后在重力圖標（鼠標指針會變成小方塊，波浪形的對角線），將它們拖動到粒子的圖標。這些粒子將被突出顯示在第二，這意味著綁定是好的。然后去修改面板，參數，調整實力= 0.04

強度=增加強度增加重力的影響，也就是說，對象移動重力圖標的方向箭頭。強度小于0.0創建負重力，排斥粒子在同一方向移動，并吸引粒子向相反的方向移動。當強度設置為0.0，重力空間扭曲有沒有效果。

衰減=當衰減設置為0.0，重力空間扭曲整個世界空間中具有相同的強度。增加衰減值導致重力強度隨著距離的增加重力扭曲對象的位置，以減少。默認值= 0.0。

12。現在玩的時間滑塊在第25幀和看到的粒子流。現在我們修改的顆粒流的方向和方位。但你可以看到，它下山直接倒在底部，而不是在水面。現在，我們將糾正這個到下一個程序。見下圖

13。向后移動時間滑塊移動到0，重力圖標點擊右鍵，選擇“隱藏”的選擇。創建面板，然后選擇空間扭曲瀏覽，選擇和選擇引下線從列表中點擊導流。在頂視圖中拖動的位置上的瀑布，假設您水面的大小。然后在左或前視圖位置或與水面。

14。請的頂視圖活性，去到主工具欄，選擇“綁定到空間扭曲圖標，然后選擇defletor圖標和等待，直到該圖標的變化，然后將其拖動到粒子圖標。然后去修改面板和參數調整的反彈。為此，我做40 .25，變異。

彈跳 -控制粒子的速度彈開導流。當設定為1.0，粒子彈離偏轉器以相同的速度，他們擊中它。在0.0，顆粒不反彈。在0.0和1.0之間的值，粒子彈離偏轉器的速度從它們的初始速度降低。在大于1.0的值時，粒子彈離偏轉器的速度大于它們的初始速度。默認= 1.0。

變化 -每個粒子可以從彈跳設置。

現在設置幾乎完成了，播放時間幻燈片并查看反應粒子。將時間滑塊移動到35。如下圖所示

5。現在使用的模型材料。請參考我下面的資料

16。最終顆粒微調。時間滑塊定位在40幀。單擊“粒子陣列粒子，去修改和調整從粒子產生的使用費用為600。然后右鍵點擊顆粒，激活對象的屬性，并啟用運動模糊，選擇“圖像”，然后單擊“確定”。見圖

取消隱藏和解凍的所有對象，按一下相機，去修改和激活渲染效果通行證總合格2。最后按F10，去渲染，點擊申請對象運動模糊。幀的持續時間至10日，持續時間細分10 .5樣品。選擇源中，右鍵單擊，選擇“對象屬性”，取消勾選渲染。

這是原場景數據（未渲染）

然后渲染。白天場景渲染

夜景渲染

轉載聲明：本文來源于網絡，不作任何商業用途